本文围绕研磨、加工、工件、流体、作用、进行、抛光、机械、利用、化学反应等有关词展开编写的关于超精密研磨抛光的主要技术介绍的研磨加工工件相关文章，仅供大家了解学习。

超精密研磨抛光主要技术介绍

1.在液体中研磨

将超精密抛光磨具面和工件浸泡在含有磨粒的磨料中，借助水波效应，在充足的加工液中用游离的细小磨粒进行磨削，对磨粒产生的热量有极好的冷却作用，对磨削过程中的小冲击有缓冲作用。

2.机械化学研磨

化学研磨是通过化学反应进行的机械研磨。有湿磨和干磨两种。

湿法机械化学研磨用于硅晶片的zui终精加工。该研磨剂含有0.01um的二氧化硅磨粒，在弱碱性胶体溶液中，与之配套的磨具是涂有精细结构的软质发泡聚氨基酸的人造革。

干态机械化学研磨是一种利用工件和磨粒之间化学反应的研磨方法。干燥条件下小范围的化学反应有利于加工，因为粒径为0.01—0.02的二氧化硅磨粒化学活性强，研磨量大。

3.磁流体精密研磨

磁流体是在液相中分散成胶体大小的铁磁粉(

磨料悬浮加工是一种利用悬浮在液体中的磨粒进行可控精密磨削的加工工艺。磨削装置由磨削加工部分、驱动部分和电磁部分组成。磨料控制加工是预先将磨粒放入磨具的孔中，通过磁流体的作用将磨料逐渐输送到磨盘上。封闭式磁流体处理是通过橡胶板将磨粒从磁流体中分离出来。

4.磁力研磨

利用磁场，磁极之间的磁性磨料形成刷子一样的磨料，吸附在磁极的工作面上。在磨料与工件的相对运动下，实现工件表面的磨削效果。这种加工方法不仅可以磨削圆周面、平面和边缘，还可以磨削凹凸不平的复杂曲面。

5.软磨粒的机械抛光(弹性发加工)

小切削可以达到原子级，直到切掉一层原子，被加工表面的晶格不会变形，从而获得表面粗糙度极小、材料极其纯净的表面。加工原理的实质是磨粒扩散和微小颗粒加速弹性出的力学效应的综合作用。静电粉末粒子在真空、气流或水流中加速。

6.化学机械抛光

化学抛光是一种利用研磨液的腐蚀和磨粒的机械作用的抛光方法。蚀刻液，如氧化铁和硫酸或盐酸的水溶液、锰锌铁氧体磨粒和盐酸的水溶液等。

7.水合抛光

它是利用工件界面上的水化化学反应进行磨削的方法。其主要特点是不使用磨粒和加工液，加工装置类似于目前使用的磨盘或抛光机，只是在水蒸气环境下加工。

机理:在抛光过程中，两个物体在接触区域产生相对摩擦和高温高压，因此工件表面的原子或分子被激活。利用水蒸气分子或过热水作用于界面，在界面上形成一层水化化学反应层，然后在一个大气压的水蒸气环境中，借助过热水蒸气或外部摩擦，将这一层水化层从工件表面分离去除，从而实现镜面加工。

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